Nikon annuncia lo sviluppo di un sistema di litografia digitale con risoluzione di 1,0 micron (L/S *1 )

Nikon Corporation (Nikon) sta sviluppando un sistema di litografia digitale con risoluzione di un micron (L/S) e alta produttività per applicazioni avanzate di confezionamento di semiconduttori. Il lancio di questo prodotto è previsto per l’anno fiscale 2026 di Nikon.

La rapida adozione della tecnologia dell’intelligenza artificiale (AI) sta guidando la domanda di circuiti integrati (IC) per i data center. Nel campo del packaging avanzato, inclusi i chiplet, le dimensioni dei package stanno aumentando con la miniaturizzazione dei modelli di cablaggio. Ciò porterà a una maggiore domanda di package a livello di pannello che utilizzano vetro e altri materiali adatti a package più grandi, che richiedono apparecchiature di esposizione che combinano alta risoluzione con un’ampia area di esposizione. Per soddisfare queste richieste, Nikon sta sviluppando apparecchiature di esposizione digitale che combinano la tecnologia ad alta risoluzione dei suoi sistemi di litografia a semiconduttore, coltivata per molti decenni, insieme all’eccellente produttività resa possibile dalla tecnologia multi-obiettivo ^*2 dei suoi sistemi di litografia FPD.

Il sistema di litografia digitale non utilizza fotomaschere. Invece, irradia luce da una sorgente su un modulatore di luce spaziale (SLM) che visualizza un pattern di circuito e lo trasferisce su un substrato utilizzando un sistema ottico di proiezione. Poiché non è necessario progettare o produrre fotomaschere, il sistema di litografia digitale contribuisce anche a ridurre i costi, nonché ad accorciare i tempi di sviluppo e produzione del prodotto.

Nikon continuerà a contribuire alla produzione avanzata di semiconduttori fornendo sistemi e soluzioni litografiche per soddisfare pienamente gli obiettivi e i requisiti di produzione dei nostri clienti.

• *1Abbreviazione di Line and Space. Si riferisce alla larghezza del cablaggio e allo spazio tra i cablaggi adiacenti.
• *2Tecnologia proprietaria di Nikon che espone più lenti di proiezione in una matrice e le controlla con precisione per produrre lo stesso effetto come se fosse utilizzata una singola lente gigante. Ciò consente la modellazione su un’area più ampia con una singola esposizione.